Mikro-Nano-Strukturen

  •  Herstellung im Fotolack auf einen Silizium Wafer oder einen Glasplatte   
  • 10 nm bis zu 1 mm Struktur großen
  • UV-, E-Beam-, Laser- und Interferenz Lithographie
  • Seitenverhältnisse bis zum 5
  • Struktur Höhen bis zum 200 µm